光刻胶,作为半导体制造过程中的关键材料,电子化学品“皇冠上的明珠,利用光化学反应,经过曝光、显影等光刻工艺,将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。
整个芯片制造过程中可能需要数十次光刻,光刻工艺成本约为整个芯片制造工艺的 30%,耗时约占整个的 40%-50%。而且,光刻工艺的精密度决定了集成电路的关键尺寸,奠定了器件微缩的基础,精密度越高,得到的沟道长度就越短,实现的工作电压就越低。因此,光刻胶是一种重要的容易“卡脖子”的电子化学品。
按应用领域可以分为半导体光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶等。其中,技术门槛最高的是半导体光刻胶。
目前,光刻胶市场主要由东京应化、杜邦、JSR、住友化学和DONGJIM等几大公司把持,尤其是在半导体光刻胶领域,垄断程度更高。
面对光刻胶涨价的趋势,国产光刻胶企业迎来了发展机遇。随着国家对半导体产业的重视和支持,国产光刻胶企业得到了更多的资金和政策支持,加快了技术研发和产业升级的步伐。同时,国内半导体企业的崛起也带动了国产光刻胶的需求增长,为国产光刻胶企业提供了广阔的市场空间。
总之,光刻胶涨价为国产光刻胶企业带来了发展机遇和挑战。在未来的发展中,国产光刻胶企业需要加强技术研发和品质控制,提高产品竞争力,推动国内半导体产业的健康发展。
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